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多弧离子镀与磁控溅射,蒸发镀之间的区别


发布日期:[2009-07-29] 共阅[7968]次

多弧离子镀与磁控溅射,蒸发镀之间的区别(转载自光学在线)

 
是转载的说法,有不对的地方请担待并指正。三者的区别在于工作原理不同

蒸发镀:通过蒸发镀加热使膜材蒸发。蒸发镀有电阻加热式、电子束加热式、感应加热式。

磁控溅射镀:磁控靶是静止电磁场,磁场为曲线形,以磁场改变电子运动方向,是展于高密度的等离子体异常辉光放电。其特点是溅射能量低,基本温度低。

多弧离子镀:多弧靶是电弧蒸发源,是冷阴极电弧放电型自持自离化的固体蒸发源。其特点是离子能量高,沉积速率高,膜层改密性高,单固性好。

蒸发镀主要做玻璃和塑胶,俺不懂,毛主席老人家说得好,没有调查就没有发言权.在此说说磁控和多弧
磁控能对多种金属进行溅射,膜厚和颜色比较容易控制,膜层颗粒细能满足良好外观要求.沉积时间较长,膜层耐磨性不如多弧.
多弧的优点就是磁控的缺陷,还有就是对有些靶材镀出来外观效果不理想如金,不锈钢等
不过二者结合起来用的也大有人在.

塑胶产品CPC或ABS材料表面装饰性镀膜,若要单固性好些就要采用磁控溅射镀;若要表面光亮些就有蒸发镀

 

 
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